Fujifilm XF 16-55mm F2.8 WR OIS

Fujifilm XF 16-55mm f/2.8 R LM WR

Fujifilm XF 16-55mm f/2.8 R LM WR dành cho máy ảnh Fujifilm X-mount là một ống kính zoom tiêu chuẩn, được thiết kế để làm việc trong điều kiện khắc nghiệt, chống chịu với mọi thời tiết. Ống kính này cung cấp phạm vi chiều dài tiêu cự trên định dạng Full-Frame là 24-82.5mm, cho góc nhìn rộng, linh hoạt. Với khẩu độ tối đa không đổi f/2.8, Fujifilm XF 16-55mm f/2.8 R LM WR sẽ đạt được hiệu suất làm việc tốt trong điều kiện ánh sáng yếu cũng như kiểm soát khả năng lấy nét ở mọt trường ảnh.
 
Ống kính này còn tích hợp hệ thống tự động lấy nét Twin Linea, cho tốc độ lấy nét đạt cực nhanh cùng với sự chính xác và yên tĩnh nhất.
Về quang học, ống kính bao gồm 17 thấu kính trong 12 nhóm, trong đó có 3 thấu kính phân tán cực thấp ED nhằm kiểm soát quang sai màu sắc và 3 thấu kính phi cầu để hạn chế hiện tượng biến dạng trong suốt dải zoom. Ngoài ra, Fujifilm XF 16-55mm f/2.8 sử dụng công nghệ phủ Nano-GI và lớp phủ HT-EBC cho các thấu kính để thay đổi chỉ số khúc xạ, giảm thiểu sự phản xạ bề mặt, ngăn chặn hiện tượng lóe sáng và bóng mờ. Đồng thời, công nghệ Lens Modulation Optimiser trên Fujifilm XF 16-55mm f/2.8 khi kết hợp với máy ảnh X-series sẽ có tác dụng rất lớn trong việc giảm đi đáng kể nhiễu xạ, ngay ở khẩu độ nhỏ, cho hình ảnh sắc nét, rõ ràng ở mọi góc cạnh.
 
 
TÍNH NĂNG NỔI BẬT
 
Thiết kế quang học nâng cao chất lượng ảnh, xứng tầm với một chiếc ống kính Zoom tiêu chuẩn hàng đầu
 Để đạt được chất lượng hình ảnh tốt nhất, ống kính được thiết kế với khẩu độ cố định và độ mở khẩu lớn (F2.8), gồm 17 thành tố được chia thành 12 nhóm. Trong đó, gồm có 3 thấu kính phi cầu hạn chế hiện tượng quang sai và méo góc và 3 thấu kính tán xạ cực thấp (ED) giảm sắc sai phương ngang (góc rộng) và sắc sai trục(telephoto), từ đó đạt được độ sắc nét đến từng đường nét của vật thể trên toàn bộ dải zoom.
 Với thiết kế 9 lá khẩu tạo nên bokeh tròn và mịn màng. Lúc này, nhờ hiện tượng quang sai cầu đã bị loại bỏ gần hết, ống kính mang lại hiệu ứng bokeh tròn và đẹp ở cả trước và sau chủ thể.
 Áp dụng công nghệ đặc biệt của Fujifilm, bề mặt ống kính được phủ một lớp dẫn truyền dòng phân tử cực nhanh HT-EBC , giúp giảm thiểu hiện tượng bóng ma và flare sáng cho hình ảnh trong và rõ nét. Nài ra, ống kính còn được tích hợp công nghệ phủ Nano-GI mới, có tác dụng thay đổi chỉ số khúc xạ giữa kính và không khí, nhằm làm giảm hiện tượng bóng ma và vệt sáng.
 Kết hợp với máy ảnh X-series được trang bị công nghệ Tối ưu hóa Ống kính (LMO), hiệu suất của Ống kính lại được nâng cao lên rất nhiều. LMO giúp hạn chế sự nhiễu xạ ánh sáng, mang lại hình ảnh sắc cạnh và tạo cảm giác đa chiều cho bức ảnh, cho dù ở khẩu nhỏ nhất.
 
Tốc độ nhanh, bắt nét êm ái nhờ có Động cơ tuyến tính
Bằng cách giảm trọng lượng của thấu kính lấy nét và thay thế bằng động cơ tuyến tính kép, giúp nâng cao tốc độ và lấy nét êm ái hơn. Tốc độ AF cao (0,06 giây) mang lại sự thoải mái cho bạn khi kết hợp ống kính này với một thân máy X Series * có trang bị tính năng lấy nét AF theo pha. Cùng với sự hoạt động yên tĩnh của thân máy không gương lật, bạn hoàn toàn có thể chụp ảnh trong môi trường có không gian im lặng (nơi thiêng liêng, họp báo…).
 
Kháng thời tiết, kháng bụi và chống chọi nhiệt độ thấp (-10°C)
Bằng cách phủ các lớp bảo vệ cho từng thành phần, ống kính được trang bị khả năng chống chịu được thời tiết, chống bụi và hoạt động ở nhiệt độ thấp (-10 ° C). Đây là một "bộ đôi" hoàn hảo cùng với máy ảnh FUJIFILM X-T1 (được trang bị các lớp phủ kháng thời tiết, bụi bẩn và nhiệt độ tương tự)